无牙上颌患者两侧颊间隙过深的特殊设计与制作

　　无牙上颌患者两侧颊间隙过深的情况在临床中比较少见，我们充分利用两侧过深的颊间隙来制作带有阻塞器的上颌总义齿，均达到满意的修复效果。

　　临床资料

　　1995年至1998年，共接诊3例该类患者，年龄在65岁～70岁之间，其中男性1例，女性2例。患者均表现两侧颊面部凹陷，进食后两侧颊间隙食物嵌塞。口腔检查可见两侧上颌结节颊侧有约2.0×1.5×2.2cm3的凹陷，粘膜正常，牙槽嵴完整，下颌1例有余留牙，2例无余留牙。

　　设计与制作方法如下：

　　1.取印模：常规取初、终印模，注意做好肌功能修整，取得精确的终印模，应注意尽量将两侧颊间隙完整反映在印模上。

　　2.灌制模型：用超硬石膏灌注，将两侧颊间隙处的印模完全包住，灌底座时不要施加压力，防止模型断裂及颊间隙倒凹印模变形。模型灌制完成后，将两侧过深颊间隙内过大倒凹作适当缓冲。

　　3.制作上托：模型表面涂分离剂，用双层蜡片制作基托，在两侧颊间隙处用软蜡填入，体积稍小于颊间隙。

　　4.常规颌位记录、上架、排牙。

　　5.试戴：旋转就位。除常规检查颌位记录及外形外，还应重点检查两侧颊间隙是否充满，有无压痛等。

　　6.完成蜡型，常规装盒、填胶、热处理、打磨、抛光。（医学教育网搜集）

　　7.戴牙：再次检查颊间隙情况，面部外形，调，医嘱。